涂膠:旋涂
普通光阻:正膠/負(fù)膠
特殊光阻:SU8/Polyide
曝光:I-Line步進(jìn)式,1X接近式/接觸式,單面/雙面曝光
顯影
涂膠顯影機(jī)(SUSS):Arm傳送方式,涂膠顯影盤邊緣吸附,一體化為MEMS結(jié)構(gòu)器件定制設(shè)備,有多種膠管支撐工藝選擇。
雙面曝光機(jī)(SUSS):支持雙面曝光,正面曝光對準(zhǔn)精度1um,背面曝光對準(zhǔn)精度1.5um,支持最小CD尺寸2um工藝。
步進(jìn)光刻機(jī)(Ultatech Stepper):對準(zhǔn)精度0.3um,工藝最小CD 0.8um,可滿足大部分小線寬MEMS工藝CD。
步進(jìn)光刻機(jī)原理
光刻機(jī)實(shí)際操作圖
產(chǎn)品曝光效果
涂膠:旋涂
普通光阻:正膠/負(fù)膠
特殊光阻:SU8/Polyide
曝光:I-Line步進(jìn)式,1X接近式/接觸式,單面/雙面曝光
顯影
涂膠顯影機(jī)(SUSS):Arm傳送方式,涂膠顯影盤邊緣吸附,一體化為MEMS結(jié)構(gòu)器件定制設(shè)備,有多種膠管支撐工藝選擇。
雙面曝光機(jī)(SUSS):支持雙面曝光,正面曝光對準(zhǔn)精度1um,背面曝光對準(zhǔn)精度1.5um,支持最小CD尺寸2um工藝。
步進(jìn)光刻機(jī)(Ultatech Stepper):對準(zhǔn)精度0.3um,工藝最小CD 0.8um,可滿足大部分小線寬MEMS工藝CD。
步進(jìn)光刻機(jī)原理
光刻機(jī)實(shí)際操作圖
產(chǎn)品曝光效果